Prodotti Prodotti in PTFE (Teflon) PTFE (Teflon) da laboratorio Porta Wafer in PTFE per Semiconduttori 8 Pollici Resistente alla Pulizia a Umido e All'Incisione con HF
Attiva/disattiva categorie
Porta Wafer in PTFE per Semiconduttori 8 Pollici Resistente alla Pulizia a Umido e All'Incisione con HF

PTFE (Teflon) da laboratorio

Porta Wafer in PTFE per Semiconduttori 8 Pollici Resistente alla Pulizia a Umido e All'Incisione con HF

Numero articolo : PL-CP82

Il prezzo varia in base a specifiche e personalizzazioni


Composizione del materiale
PTFE vergine ad alta purezza
Diametro del wafer
8 pollici (200 mm) personalizzabile
Resistenza chimica
Resistente all'HF e agli acidi/solventi universali
ISO & CE icon

Spedizione:

Contattaci per ottenere i dettagli sulla spedizione. Buon divertimento Garanzia di spedizione puntuale.

Vedi Specifiche

Perché Scegliere Noi

Processo di ordinazione semplice, prodotti di qualità e supporto dedicato per il successo della tua azienda.

Processo Semplice Qualità Assicurata Supporto Dedicato

Panoramica del Prodotto

Product image 1

Product image 2

Product image 3

Product image 4

Questo sistema ad alte prestazioni per la movimentazione dei wafer è progettato specificamente per le rigorose esigenze della produzione di semiconduttori a processo umido. Costruito in politetrafluoroetilene (PTFE) di prima qualità, l'attrezzatura offre un livello ineguagliabile di inerzia chimica, rendendola un componente essenziale per i processi che coinvolgono acidi aggressivi e solventi. Il suo design specializzato garantisce il posizionamento sicuro e la protezione dei wafer da 8 pollici durante i cicli critici di pulizia, incisione e risciacquo, dove l'integrità strutturale e la purezza del materiale sono non negoziabili.

Utilizzato principalmente nella fabbricazione di microelettronica, nella produzione di celle fotovoltaiche e nei laboratori di ricerca avanzati, questa unità è progettata per resistere agli ambienti aggressivi dei wet bench e delle linee di processo chimico automatizzate. Le proprietà intrinseche antiaderenti e l'elevata stabilità termica del materiale in fluoropolimero prevengono la contaminazione e assicurano che i substrati delicati rimangano privi di impurità metalliche o organiche. Integrando questo sistema in un flusso di lavoro produttivo, gli impianti possono ottenere tassi di resa più elevati grazie a una protezione superiore del wafer e risultati di processo consistenti.

Progettato per longevità e affidabilità, questo porta wafer mantiene la sua stabilità dimensionale anche sotto costante esposizione a cicli termici e reagenti corrosivi come l'acido fluoridrico (HF). L'architettura lavorata con precisione minimizza il ristagno di fluidi e favorisce un drenaggio efficiente, garantendo che la contaminazione incrociata tra le fasi del processo sia praticamente eliminata. I team di approvvigionamento e gli ingegneri di processo possono contare su questa robusta unità per fornire prestazioni costanti in ambienti industriali ad alto rischio, dove il guasto delle apparecchiature non è un'opzione.

Caratteristiche Principali

  • Eccezionale Resistenza Chimica: Realizzato in PTFE ad alta purezza, questo sistema è completamente inerte a quasi tutti i prodotti chimici industriali, inclusi acido fluoridrico concentrato, acido nitrico e vari solventi organici utilizzati nell'incisione dei semiconduttori.
  • Costruzione in Materiale ad Alta Purezza: L'uso di fluoropolimero vergine garantisce che nessun metallo traccia o contaminante venga rilasciato nella chimica di processo, mantenendo gli standard ultra-puliti richiesti per la fabbricazione di semiconduttori sub-micron.
  • Superiore Stabilità Termica: L'attrezzatura opera in modo affidabile in un ampio spettro di temperature, da livelli criogenici fino a 260°C, consentendo l'uso sia in bagni acidi riscaldati che in fasi di pulizia con solventi freddi.
  • Lavorazione CNC di Precisione: Ogni unità è prodotta utilizzando tecniche avanzate di fabbricazione CNC, risultando in finiture superficiali lisce e tolleranze rigorose che garantiscono un perfetto alloggiamento del wafer e vibrazioni minime durante il trasporto.
  • Fluidodinamica Ottimizzata: Il design a telaio aperto e le fessure tagliate con precisione sono progettati per facilitare il massimo flusso chimico e un drenaggio rapido, riducendo il rischio di trascinamento chimico e garantendo un'incisione uniforme su tutta la superficie del wafer.
  • Profilo Superficiale a Basso Attrito: Il coefficiente di attrito naturalmente basso del materiale previene graffi o stress meccanici sui bordi del wafer, preservando l'integrità degli strati sottili sensibili e dei delicati pattern.
  • Geometria degli Slot Personalizzabile: L'architettura interna può essere adattata per accogliere spessori e requisiti di spaziatura specifici dei wafer, offrendo flessibilità per protocolli di processo non standard.
  • Robusta Integrità Strutturale: A differenza delle alternative stampate, questi componenti lavorati resistono alla deformazione e alla fatica meccanica, garantendo una maggiore durata di servizio nelle linee di produzione industriale ad alto volume.
  • Proprietà Idrofobiche: La repellenza all'acqua intrinseca del fluoropolimero favorisce un'asciugatura rapida e riduce l'accumulo di incrostazioni o residui di processo sul telaio del porta wafer stesso.
  • Movimentazione Senza Contaminazione: Progettato con punti ergonomici per interfacce robotiche automatizzate o strumenti di movimentazione manuale, garantendo che i wafer vengano spostati attraverso la fabbrica senza alcun contatto diretto con potenziali contaminanti.

Applicazioni

Applicazione Descrizione Vantaggio Chiave
Incisione di Wafer di Silicio Movimentazione dei wafer durante la rimozione di strati sacrificali utilizzando chimiche a base di HF. La completa resistenza all'attacco acido garantisce la longevità del porta wafer.
Processo di Pulizia RCA Supporto dei wafer attraverso più fasi di rimozione di contaminanti organici e ionici. La purezza del materiale previene la ricontaminazione delle superfici pulite.
Pulizia Post-CMP Trasporto dei wafer attraverso spazzole di pulizia e bagni chimici dopo la planarizzazione. Il basso rilascio di particelle mantiene conteggi di difetti estremamente bassi.
Rimozione del Fotoresist Utilizzo di solventi aggressivi per rimuovere rivestimenti fotosensibili dopo la litografia. L'inerzia chimica previene il degrado del materiale nei bagni di solvente.
Fabbricazione di Celle Solari Supporto della lavorazione di substrati su larga scala in ambienti ad alta acidità per celle fotovoltaiche. La durata nella produzione ad alto volume riduce i costi di sostituzione.
Produzione di MEMS Gestione di delicati sistemi micro-elettromeccanici durante complesse fasi di rilascio a umido. L'allineamento preciso degli slot previene danni meccanici alle strutture.
Campionamento Analitico Utilizzo del porta wafer come supporto per substrati per analisi di metalli traccia ad alta purezza. Livelli di fondo ultra-bassi garantiscono risultati di laboratorio accurati.

Specifiche Tecniche

Categoria Caratteristica Dettagli Tecnici per PL-CP82
Identificazione Prodotto Porta Wafer Personalizzato Serie PL-CP82
Materiale Primario PTFE Vergine ad Alta Purezza (Politetrafluoroetilene)
Compatibilità Dimensione Wafer Standard 8 pollici (200mm) / Diametri completamente personalizzabili
Tipo di Configurazione Disponibile a wafer singolo (individuale) o multi-slot
Metodo di Fabbricazione 100% Lavorazione CNC di Precisione (Nessun residuo di stampaggio)
Intervallo di Temperatura -200°C a +260°C (-328°F a +500°F)
Compatibilità Chimica Universale (HF, HCl, H2SO4, KOH, Acetone, ecc.)
Rugosità Superficiale Personalizzabile in base a specifici requisiti di sala pulita
Passo / Profondità Slot Adattato ai parametri di processo specifici del cliente
Maniglia/Interfaccia Punti di presa robotici personalizzati o opzioni di presa manuale
Accuratezza Dimensionale Controllo di tolleranza ad alta precisione secondo standard industriali

Perché Scegliere Questo Sistema

Scegliere questo porta wafer in PTFE rappresenta un investimento nella stabilità del processo e nell'efficienza operativa a lungo termine. A differenza della vetreria di plastica standard prodotta in serie, le nostre unità sono progettate su misura e lavorate con precisione da blocchi solidi di fluoropolimero premium, garantendo che soddisfino le esatte esigenze meccaniche e chimiche del vostro impianto specifico. Questo approccio su misura elimina i compromessi spesso riscontrati con componenti standard, come una scarsa vestibilità o il degrado del materiale in chimiche specializzate.

Il nostro impegno per l'eccellenza ingegneristica significa che ogni unità è sottoposta a rigorosi controlli di qualità per garantire che rispetti gli standard severi dell'industria dei semiconduttori. Diamo priorità alla durata e alla purezza, assicurando che i nostri prodotti contribuiscano a rese più elevate e a un costo totale di proprietà inferiore, prolungando significativamente gli intervalli tra le sostituzioni delle apparecchiature. Con le nostre capacità di fabbricazione CNC end-to-end, possiamo adattare rapidamente i progetti per soddisfare le esigenze tecnologiche in evoluzione, dai wafer standard da 8 pollici a geometrie di substrato uniche.

Sappiamo che nella produzione high-tech, l'affidabilità è fondamentale. Il nostro team fornisce un supporto tecnico completo e una consulenza di progettazione per garantire che l'attrezzatura si integri perfettamente con i vostri wet bench e sistemi automatizzati esistenti. Scegliendo le nostre soluzioni ad alte prestazioni in fluoropolimero, state scegliendo un partner dedicato ai più alti livelli di scienza dei materiali e produzione di precisione.

Per una consulenza tecnica o per richiedere un preventivo personalizzato per le vostre specifiche esigenze di processo, contattate oggi il nostro team di ingegneria.

Fidato dai Leader del Settore

I Nostri Clienti Partner
Visualizza altre domande frequenti per questo prodotto

Scheda Tecnica del Prodotto

Porta Wafer in PTFE per Semiconduttori 8 Pollici Resistente alla Pulizia a Umido e All'Incisione con HF

Catalogo delle Categorie

Ptfe (Teflon) Da Laboratorio


RICHIEDI UN PREVENTIVO

Il nostro team professionale ti risponderà entro un giorno lavorativo. Non esitare a contattarci!

Prodotti correlati

Portapiastrine in silicio in PTFE per processi di incisione acida e pulizia 2 4 6 8 Pollici personalizzabile resistente alle alte temperature

Portapiastrine in silicio in PTFE per processi di incisione acida e pulizia 2 4 6 8 Pollici personalizzabile resistente alle alte temperature

Portapiastrine in silicio in PTFE ad alta purezza progettati per processi di incisione acida estrema e pulizia. Ottimizzati per piastrine da 2 a 8 pollici, questi robusti portapiastrine personalizzabili garantiscono una manipolazione senza contaminazioni e stabilità termica negli ambienti di produzione semiconduttrici più impegnativi per l'approvvigionamento B2B.

Vedi dettagli
Porta wafer in PTFE (Politetrafluoroetilene) a cestello per pulizia di piccoli wafer di silicio per decapaggio acido in laboratorio

Porta wafer in PTFE (Politetrafluoroetilene) a cestello per pulizia di piccoli wafer di silicio per decapaggio acido in laboratorio

Questo cestello a fiore in PTFE ad alta purezza offre un'eccezionale resistenza chimica per la pulizia di wafer di silicio e il decapaggio acido. Progettato per applicazioni di precisione in laboratorio, garantisce una penetrazione uniforme del fluido e una manipolazione senza contaminazione di substrati semiconduttori delicati in ambienti chimici aggressivi.

Vedi dettagli
Portatore Cestello di Pulizia Laboratorio PTFE Personalizzato Resistenza Acidi e Basi Alta Purezza Supporto Wafer Basso Sfondo Contaminazione Zero Rack per Bagno Chimico

Portatore Cestello di Pulizia Laboratorio PTFE Personalizzato Resistenza Acidi e Basi Alta Purezza Supporto Wafer Basso Sfondo Contaminazione Zero Rack per Bagno Chimico

Scopri i portatori di cestelli di pulizia in PTFE personalizzati ad alta purezza progettati per la semiconduttrice e l'analisi delle tracce. Questi rack resistenti agli acidi garantiscono zero rilascio e livelli di fondo ultra-bassi, fornendo prestazioni affidabili negli ambienti chimici più esigenti per i processi di pulizia di laboratorio di precisione.

Vedi dettagli
Vassoio Portawafers Rotondo in PTFE e Vassoio di Reazione Isolante Resistente alla Corrosione per la Produzione di Semiconduttori ed Elettronica

Vassoio Portawafers Rotondo in PTFE e Vassoio di Reazione Isolante Resistente alla Corrosione per la Produzione di Semiconduttori ed Elettronica

Scopri vassoi portawafers rotondi in PTFE ad alte prestazioni e vassoi di reazione isolanti progettati per l'industria elettronica. Questi portawafers progettati su misura offrono un'eccezionale resistenza chimica, una superiore rigidità dielettrica e stabilità termica per le applicazioni più esigenti di lavorazione dei semiconduttori e produzione di componenti elettronici di precisione.

Vedi dettagli
Cestello quadrato in PTFE per pulizia wafer Portapannelli in fluoropolimero per incisione semiconduttori Portapiastrelle di silicio personalizzato

Cestello quadrato in PTFE per pulizia wafer Portapannelli in fluoropolimero per incisione semiconduttori Portapiastrelle di silicio personalizzato

Ottimizza i processi di banco umido per semiconduttori con i nostri cestelli quadrati personalizzati in PTFE per la pulizia dei wafer. Progettati per un'estrema resistenza chimica e una manipolazione ad alta purezza, questi portapezzi in fluoropolimero offrono durabilità e precisione superiori per le operazioni critiche di incisione e pulizia dei wafer di silicio.

Vedi dettagli
Porta Wafer Circolare in PTFE da 6 Pollici Resistente ad Acidi e Alcalini Cestello per Pulizia Semiconduttori Personalizzabile

Porta Wafer Circolare in PTFE da 6 Pollici Resistente ad Acidi e Alcalini Cestello per Pulizia Semiconduttori Personalizzabile

Porta wafer circolari in PTFE da 6 pollici ad alta purezza progettati per la pulizia dei semiconduttori. Eccellente resistenza agli acidi e agli alcali per l'incisione piranha e HF. Cestelli lavorati con precisione, completamente personalizzabili, per garantire una manipolazione sicura dei substrati durante processi chimici a umido impegnativi, bagni a immersione e risciacqui ultrasonici.

Vedi dettagli
Porta wafer in PTFE ad alta purezza, cestello a fiore per la lavorazione del silicio resistente alla corrosione, materiale da laboratorio su misura

Porta wafer in PTFE ad alta purezza, cestello a fiore per la lavorazione del silicio resistente alla corrosione, materiale da laboratorio su misura

Ottimizza la pulizia dei semiconduttori con i nostri porta wafer in PTFE ad alta purezza: caratterizzati da estrema resistenza chimica e dimensioni completamente personalizzabili, sono ideali per i flussi di lavorazione di precisione del silicio, incluse le procedure di pulizia RCA e attacco piranha nei moderni ambienti di camera bianca avanzata.

Vedi dettagli
Cesta per la pulizia di portapiastrine in PTFE personalizzata, resistente alla corrosione, senza lisciviazione, supporto per esperimenti con polimeri avanzati

Cesta per la pulizia di portapiastrine in PTFE personalizzata, resistente alla corrosione, senza lisciviazione, supporto per esperimenti con polimeri avanzati

Portapiastrine in PTFE personalizzati e cestelli per la pulizia ad alte prestazioni, progettati per la ricerca su semiconduttori e polimeri. Caratterizzati da eccezionale resistenza alla corrosione e proprietà a zero lisciviazione, queste soluzioni su misura garantiscono una lavorazione senza contaminazione in ambienti chimici impegnativi per applicazioni industriali e di laboratorio ad alta precisione.

Vedi dettagli
Porta wafer in PTFE ad alta purezza per incisione, pulizia dei wafer di silicio semiconduttori e resistenza agli acidi

Porta wafer in PTFE ad alta purezza per incisione, pulizia dei wafer di silicio semiconduttori e resistenza agli acidi

Cassette per wafer in PTFE premium progettate per processi di incisione e pulizia di semiconduttori. La superiore resistenza all'HF e la costruzione ad alta purezza garantiscono una manipolazione sicura dei wafer di silicio nei processi umidi critici. Ideale per substrati da 2 a 12 pollici in ambienti di cleanroom.

Vedi dettagli
Porta wafer circolare in PTFE da 6 pollici, cestello per pulizia semiconduttori resistente agli acidi e agli alcali, personalizzabile

Porta wafer circolare in PTFE da 6 pollici, cestello per pulizia semiconduttori resistente agli acidi e agli alcali, personalizzabile

Porta wafer in PTFE ad alta purezza da 6 pollici progettati per la lavorazione umida critica di semiconduttori. Progettati per un'estrema resistenza chimica e stabilità termica, questi cestelli a fioriera personalizzabili garantiscono una pulizia uniforme e la protezione dei substrati in ambienti di immersione acida e alcalina aggressivi durante tutta la produzione.

Vedi dettagli
Design di Porta Wafer in PTFE Personalizzata a Cestello a Fiore Resistente Chimico con Maniglia per la Pulizia dei Semiconduttori

Design di Porta Wafer in PTFE Personalizzata a Cestello a Fiore Resistente Chimico con Maniglia per la Pulizia dei Semiconduttori

Massimizza la resa dei semiconduttori con porta wafer in PTFE personalizzati e cestelli a fiore. Progettati per una resistenza superiore all'acido fluoridrico e ai reagenti aggressivi, questi sistemi di manipolazione ad alta purezza presentano maniglie ergonomiche e slot lavorati a CNC con precisione per una pulizia a umido sicura e priva di contaminazioni.

Vedi dettagli
Cesto di pulizia in PTFE per semiconduttori - Portawafers da 12 pollici resistente agli acidi e agli alcali in fluoropolimero per incisione umida

Cesto di pulizia in PTFE per semiconduttori - Portawafers da 12 pollici resistente agli acidi e agli alcali in fluoropolimero per incisione umida

Progettato per ambienti a alta purezza per semiconduttori, questo cesto di pulizia per wafer da 12 pollici in PTFE garantisce un'eccezionale resistenza chimica durante i processi critici di incisione umida e pulizia. Il design su misura offre un supporto affidabile per i wafer e una massima esposizione ai fluidi per la produzione di precisione.

Vedi dettagli
Cestello per pulizia wafer in PTFE ad alta purezza - Supporto per wafer di silicio resistente agli acidi - Supporto per incisione in fluoropolimero

Cestello per pulizia wafer in PTFE ad alta purezza - Supporto per wafer di silicio resistente agli acidi - Supporto per incisione in fluoropolimero

Garantisci una lavorazione dei semiconduttori priva di contaminazioni con i nostri cestelli per pulizia wafer in PTFE ad alta purezza. Progettati per processi di incisione e pulizia aggressivi, questi supporti personalizzabili offrono eccezionale resistenza chimica e stabilità termica per la movimentazione di wafer di silicio durante i processi critici di produzione con prodotti chimici umidi.

Vedi dettagli
Supporto per Pulizia a Cestello Fiore PTFE Personalizzato, Resistente alla Corrosione, Porta-Wafer a Basso Fondo per la Ricerca sui Polimeri Avanzati

Supporto per Pulizia a Cestello Fiore PTFE Personalizzato, Resistente alla Corrosione, Porta-Wafer a Basso Fondo per la Ricerca sui Polimeri Avanzati

Scopri i nostri supporti per pulizia personalizzati a cestello fiore in PTFE ad alta purezza, progettati per un'estrema resistenza chimica e prestazioni a basso fondo nella ricerca sui materiali avanzati. Queste soluzioni fabbricate con precisione garantiscono un risciacquo efficiente e una lavorazione priva di contaminazioni per le esigenti applicazioni di laboratorio e industriali nei semiconduttori.

Vedi dettagli
Cestello Portawafers in PTFE Personalizzato per la Pulizia Chimica, Resistente ai Prodotti Chimici, in Fluoropolimero per l'Incisione dei Semiconduttori e la Lavorazione delle Nuove Energie

Cestello Portawafers in PTFE Personalizzato per la Pulizia Chimica, Resistente ai Prodotti Chimici, in Fluoropolimero per l'Incisione dei Semiconduttori e la Lavorazione delle Nuove Energie

Ottimizza la tua produzione di semiconduttori e nuove energie con cestelli portawafers personalizzati in PTFE. Progettati per una resistenza chimica estrema durante l'incisione e la pulizia RCA, questi portatori in fluoropolimero ad alta purezza garantiscono l'integrità del processo e una durata a lungo termine in ambienti industriali impegnativi.

Vedi dettagli
Cesto a fiore per pulizia umida in PTFE ad alta purezza, portaplacchette singolo per incisione, personalizzabile, portapiastre per maschere da 4 pollici

Cesto a fiore per pulizia umida in PTFE ad alta purezza, portaplacchette singolo per incisione, personalizzabile, portapiastre per maschere da 4 pollici

I cesti a fiore per pulizia umida in PTFE ad alta purezza offrono una resistenza chimica eccezionale per la lavorazione di wafer semiconduttori. Questi portaplacchette per incisione personalizzabili garantiscono una pulizia per immersione e una manipolazione senza contaminazione per substrati delicati in ambienti di laboratorio e industriali impegnativi. Contattateci per soluzioni fluoropolimeriche su misura.

Vedi dettagli
Cestello per la pulizia di wafer in PTFE da 4 pollici, rack per incisione, resistente ad acidi e alcali, portamaschere personalizzato

Cestello per la pulizia di wafer in PTFE da 4 pollici, rack per incisione, resistente ad acidi e alcali, portamaschere personalizzato

Cestelli per incisione in PTFE di precisione progettati per la pulizia di wafer semiconduttori e la lavorazione chimica. Questi rack per la pulizia resistenti agli acidi e ad alta purezza garantiscono zero contaminazione in ambienti di laboratorio impegnativi. Completamente personalizzabili per soddisfare specifiche dimensioni industriali di maschere e wafer per applicazioni avanzate di produzione e ricerca.

Vedi dettagli
Cestello per la pulizia di wafer semiconduttori in PTFE personalizzato, resistente alla corrosione, rack da laboratorio a basso fondo

Cestello per la pulizia di wafer semiconduttori in PTFE personalizzato, resistente alla corrosione, rack da laboratorio a basso fondo

Raggiungi una purezza superiore nella produzione di semiconduttori con i nostri cestelli per la pulizia in PTFE personalizzati. Progettati per un'estrema resistenza chimica e un basso interferenza di fondo, questi rack durevoli garantiscono un'elaborazione efficiente dei wafer, un drenaggio rapido e prestazioni affidabili in ambienti di laboratorio critici ad alta purezza.

Vedi dettagli
Cestelli di pulizia per wafer in PTFE personalizzati Portawafer in silicio per semiconduttori Cassette in fluoropolimero a basso fondo

Cestelli di pulizia per wafer in PTFE personalizzati Portawafer in silicio per semiconduttori Cassette in fluoropolimero a basso fondo

Cestelli di pulizia per wafer in PTFE personalizzati ad alta purezza per la lavorazione dei semiconduttori. Progettati per l'analisi in tracce a basso fondo e per la resistenza chimica agli agenti aggressivi, queste cassette su misura in fluoropolimero garantiscono zero dissoluzione e manipolazione senza contaminazione dei wafer di silicio in ambienti critici di camera bianca e laboratori industriali.

Vedi dettagli
Porta wafer personalizzato in PTFE resistente alla corrosione per lavorazione del polisilicio semiconduttore ad alta temperatura

Porta wafer personalizzato in PTFE resistente alla corrosione per lavorazione del polisilicio semiconduttore ad alta temperatura

Supporti per wafer in PTFE personalizzati di alta qualità progettati per ambienti chimici estremi e lavorazione semiconduttrice ad alta temperatura. Questi portelli resistenti alla corrosione garantiscono una manipolazione ad alta purezza, un funzionamento a basso attrito e un'eccezionale durata per i processi critici di produzione di polisilicio, fotovoltaico e elettronica avanzata.

Vedi dettagli