PTFE (Teflon) da laboratorio
Porta wafer in PTFE (Politetrafluoroetilene) a cestello per pulizia di piccoli wafer di silicio per decapaggio acido in laboratorio
Numero articolo : PL-CP03
Il prezzo varia in base a specifiche e personalizzazioni
- Materiale
- PTFE vergine ad alta purezza
- Intervallo di temperatura
- -200°C a +260°C
- Personalizzazione
- Personalizzazione completa CNC di larghezza e dimensioni della scanalatura
Spedizione:
Contattaci per ottenere i dettagli sulla spedizione. Buon divertimento Garanzia di spedizione puntuale.
Perché Scegliere Noi
Processo di ordinazione semplice, prodotti di qualità e supporto dedicato per il successo della tua azienda.
Panoramica del prodotto



Questo portacampioni ad alte prestazioni per laboratorio, spesso chiamato cestello a fiore, è uno strumento essenziale per il processo chimico umido di substrati delicati. Realizzato in politetrafluoroetilene (PTFE) ad alta purezza, l'apparecchiatura è progettata per contenere wafer, fette di silicio e componenti ottici in modo sicuro durante l'immersione in soluzioni aggressive di pulizia o attacco. Sfruttando l'inerzia chimica intrinseca dei fluoropolimeri di prima qualità, questo dispositivo offre un ambiente privo di contaminazioni per materiali sensibili, garantendo che i processi critici di ricerca e produzione mantengano i più alti standard di purezza.
I principali casi d'uso di questo sistema coprono la produzione di semiconduttori, la fabbricazione di celle solari e la ricerca sui materiali avanzati. È particolarmente efficace in ambienti in cui portacampioni in vetro o metallo si guasterebbero per corrosione o lisciviazione di ioni. La geometria specializzata del portacampioni permette la massima esposizione superficiale ai reagenti chimici, facilitando una pulizia e un attacco uniformi su tutti i campioni caricati. Questo rende il dispositivo un assetto indispensabile per le strutture che operano nel settore dei sistemi microelettromeccanici (MEMS) e dell'ottica di precisione.
Progettato per garantire affidabilità in condizioni impegnative, il sistema offre un'eccezionale stabilità termica e robustezza meccanica. Il personale di laboratorio può contare sulle sue prestazioni anche quando è sottoposto a cicli ripetuti di bagni in acido forte e processi di essiccazione ad alta temperatura. La combinazione di lavorazione di precisione a CNC e selezione superiore dei materiali garantisce che l'apparecchiatura rimanga una soluzione affidabile e a lungo termine per i flussi di lavoro critici di preparazione e pulizia dei campioni sia in contesti industriali che accademici.
Caratteristiche principali
- Costruzione in PTFE ad alta purezza: Fabbricata con PTFE vergine al 100%, l'apparecchiatura offre una resistenza chimica assoluta agli acidi forti (incluso HF, acqua regia), alle basi e ai solventi organici, prevenendo la contaminazione dei campioni e la degradazione del portacampioni.
- Dinamica dei fluidi ottimizzata: La distribuzione delle fessure e il design a telaio aperto progettati scientificamente garantiscono che le soluzioni di pulizia fluiscano liberamente e uniformemente attorno a ogni substrato, eliminando le zone morte e garantendo risultati di lavorazione coerenti.
- Maniglia di sicurezza integrata: Dotato di una maniglia robusta e progettata ergonomicamente, il dispositivo permette il trasferimento manuale sicuro dei campioni dentro e fuori da serbatoi chimici profondi, riducendo al minimo il rischio di esposizione dell'operatore a reagenti pericolosi.
- Gamma termica eccezionale: Le proprietà intrinseche del materiale permettono al supporto di funzionare in modo affidabile a temperature che vanno da livelli criogenici fino a 260°C, rendendolo adatto sia per attacchi a freddo che per processi di pulizia ad alta temperatura.
- Proprietà superficiali anti-adesive: La superficie naturalmente liscia e a basso attrito del fluoropolimero impedisce l'adesione di particelle e residui chimici, semplificando la pulizia del portacampioni stesso e riducendo i rischi di contaminazione incrociata.
- Fabbricazione di precisione a CNC: Ogni unità è realizzata tramite processi avanzati di lavorazione a CNC, garantendo un'elevata precisione dimensionale per larghezza e spaziatura delle fessure, un fattore critico per proteggere i fragili wafer di silicio da sollecitazioni meccaniche.
- Stabilità strutturale: Nonostante il design leggero, il portacampioni mantiene un'elevata integrità strutturale durante l'immersione, prevenendo la deformazione o lo scivolamento dei campioni anche durante cicli di agitazione o pulizia ad ultrasuoni.
Applicazioni
| Applicazione | Descrizione | Vantaggio chiave |
|---|---|---|
| Fabbricazione di semiconduttori | Pulizia e attacco di wafer di silicio con pulizia RCA o soluzione Piranha. | Zero contaminazione da ioni metallici e elevata durata chimica. |
| Lavorazione di lenti ottiche | Supporto per substrati di vetro di precisione durante la pulizia ad ultrasuoni e bagni con tensioattivi. | La superficie non danneggiante previene i graffi su rivestimenti ottici sensibili. |
| Produzione fotovoltaica | Lavorazione in batch di celle solari per la texturizzazione superficiale e la rimozione del vetro fosfatosilicato. | Elevata produttività e resistenza all'acido fluoridrico concentrato. |
| Ricerca in scienza dei materiali | Decapaggio acido di campioni di leghe metalliche o substrati ceramici per l'analisi microstrutturale. | Prestazioni affidabili in acido nitrico e solforico concentrati. |
| Fabbricazione MEMS | Manipolazione di wafer micromacchinati durante l'attacco umido di strati sacrificali. | L'allineamento preciso delle fessure previene danni alle microstrutture delicate. |
| Preparazione elettrochimica | Pulizia di elettrodi e vetro conduttivo (ITO/FTO) prima della deposizione di film sottili. | Rimuove i residui organici senza introdurre nuove impurità. |
| Nanotecnologia | Immersione di substrati in soluzioni di funzionalizzazione per monolayers autoassemblati. | Eccellente compatibilità con diversi solventi organici. |
Specifiche tecniche
| Parametro | Dettagli specifiche (Serie PL-CP03) |
|---|---|
| Identificativo modello | PL-CP03 |
| Materiale principale | PTFE vergine ad alta purezza (Politetrafluoroetilene) |
| Temperatura di funzionamento | -200°C a +260°C |
| Compatibilità chimica | Universale (Tutti gli acidi, basi e solventi comuni) |
| Larghezza standard fessura | Personalizzabile (Tipicamente 0,5mm a 3,0mm) |
| Capacità substrati | 10, 15, 20 o 25 fessure (Disponibili configurazioni personalizzate) |
| Finitura superficiale | Ra < 0,4 μm (Finitura ultra-liscia) |
| Metodo di fabbricazione | Lavorazione di precisione a CNC da billetta solida di PTFE |
| Tipo di maniglia | Opzioni con maniglia verticale fissa o a gancio rimovibile |
| Metodo di pulizia | Autoclavabile; Compatibile con ultrasuoni |
Perché scegliere noi
- Competenza premium nel settore dei fluoropolimeri: La nostra attenzione al PTFE ad alte prestazioni garantisce che ogni supporto per la pulizia soddisfi i severi requisiti di purezza delle industrie dei semiconduttori e dell'analisi in traccia.
- Progettato per durare: A differenza delle alternative in plastica stampata che possono diventare fragili o rilasciare plastificanti, i nostri portacampioni in PTFE lavorati a CNC garantiscono anni di servizio negli ambienti chimici più aggressivi.
- Capacità di personalizzazione su misura: Sappiamo che non esistono due processi di laboratorio identici; offriamo la piena personalizzazione di passo, profondità delle fessure e dimensioni complessive per adattarsi perfettamente ai tuoi wafer e ai tuoi serbatoi di pulizia specifici.
- Sicurezza di laboratorio migliorata: La maniglia integrata e il design della base stabile riducono la probabilità di fuoriuscite e incidenti durante il trasferimento di bagni chimici pericolosi.
- Coerenza operativa: Garantendo un contatto uniforme con il fluido e un posizionamento sicuro dei campioni, i nostri portacampioni aiutano a eliminare le variabili nei tuoi protocolli di pulizia e attacco, portando a rese più elevate e risultati di ricerca riproducibili.
Per le organizzazioni che necessitano di portacampioni di alta precisione adattati a specifiche dimensioni di wafer o processi chimici unici, KINTEK fornisce servizi di progettazione e produzione esperti. Contatta il nostro team tecnico oggi stesso per richiedere un preventivo o discutere una soluzione personalizzata per le esigenze del tuo laboratorio.
Fidato dai Leader del Settore
Scheda Tecnica del Prodotto
Porta wafer in PTFE (Politetrafluoroetilene) a cestello per pulizia di piccoli wafer di silicio per decapaggio acido in laboratorio
RICHIEDI UN PREVENTIVO
Il nostro team professionale ti risponderà entro un giorno lavorativo. Non esitare a contattarci!
Prodotti correlati
Cesto a fiori quadrato personalizzabile in PTFE per la pulizia di wafer di silicio per incisione in processo umido semiconduttore e movimentazione di substrati
Cesti quadrati di pulizia in PTFE ad alta purezza progettati per la lavorazione di wafer di silicio. Questo supporto resistente alla corrosione garantisce sicurezza nell'incisione umida e nella movimentazione di substrati nella produzione di semiconduttori. Sono disponibili dimensioni e configurazioni completamente personalizzabili per soddisfare i requisiti specifici di banchi di lavorazione umida sia di laboratorio che industriali.
Cestello per pulizia wafer in PTFE ad alta purezza - Supporto per wafer di silicio resistente agli acidi - Supporto per incisione in fluoropolimero
Garantisci una lavorazione dei semiconduttori priva di contaminazioni con i nostri cestelli per pulizia wafer in PTFE ad alta purezza. Progettati per processi di incisione e pulizia aggressivi, questi supporti personalizzabili offrono eccezionale resistenza chimica e stabilità termica per la movimentazione di wafer di silicio durante i processi critici di produzione con prodotti chimici umidi.
Cestello quadrato in PTFE per pulizia wafer Portapannelli in fluoropolimero per incisione semiconduttori Portapiastrelle di silicio personalizzato
Ottimizza i processi di banco umido per semiconduttori con i nostri cestelli quadrati personalizzati in PTFE per la pulizia dei wafer. Progettati per un'estrema resistenza chimica e una manipolazione ad alta purezza, questi portapezzi in fluoropolimero offrono durabilità e precisione superiori per le operazioni critiche di incisione e pulizia dei wafer di silicio.
Cestello per pulizia fotomask a forma di fiore con doppia maniglia da 6 pollici in PTFE personalizzato resistente alla corrosione
I cestelli per la pulizia di fotomask da 6 pollici con doppia maniglia in PTFE personalizzato ad alte prestazioni offrono una resistenza chimica insuperabile per i processi a umido di semiconduttori e laboratori. Questi robusti cestelli a forma di fiore garantiscono una manipolazione sicura dei campioni, un drenaggio rapido e una pulizia priva di contaminanti in acidi aggressivi e solventi.
Cesto a fiore per pulizia umida in PTFE ad alta purezza, portaplacchette singolo per incisione, personalizzabile, portapiastre per maschere da 4 pollici
I cesti a fiore per pulizia umida in PTFE ad alta purezza offrono una resistenza chimica eccezionale per la lavorazione di wafer semiconduttori. Questi portaplacchette per incisione personalizzabili garantiscono una pulizia per immersione e una manipolazione senza contaminazione per substrati delicati in ambienti di laboratorio e industriali impegnativi. Contattateci per soluzioni fluoropolimeriche su misura.
Porta wafer in PTFE ad alta purezza, cestello a fiore per la lavorazione del silicio resistente alla corrosione, materiale da laboratorio su misura
Ottimizza la pulizia dei semiconduttori con i nostri porta wafer in PTFE ad alta purezza: caratterizzati da estrema resistenza chimica e dimensioni completamente personalizzabili, sono ideali per i flussi di lavorazione di precisione del silicio, incluse le procedure di pulizia RCA e attacco piranha nei moderni ambienti di camera bianca avanzata.
Portatore Cestello di Pulizia Laboratorio PTFE Personalizzato Resistenza Acidi e Basi Alta Purezza Supporto Wafer Basso Sfondo Contaminazione Zero Rack per Bagno Chimico
Scopri i portatori di cestelli di pulizia in PTFE personalizzati ad alta purezza progettati per la semiconduttrice e l'analisi delle tracce. Questi rack resistenti agli acidi garantiscono zero rilascio e livelli di fondo ultra-bassi, fornendo prestazioni affidabili negli ambienti chimici più esigenti per i processi di pulizia di laboratorio di precisione.
Cestelli di pulizia per wafer in PTFE personalizzati Portawafer in silicio per semiconduttori Cassette in fluoropolimero a basso fondo
Cestelli di pulizia per wafer in PTFE personalizzati ad alta purezza per la lavorazione dei semiconduttori. Progettati per l'analisi in tracce a basso fondo e per la resistenza chimica agli agenti aggressivi, queste cassette su misura in fluoropolimero garantiscono zero dissoluzione e manipolazione senza contaminazione dei wafer di silicio in ambienti critici di camera bianca e laboratori industriali.
Cestello Portawafers in PTFE Personalizzato per la Pulizia Chimica, Resistente ai Prodotti Chimici, in Fluoropolimero per l'Incisione dei Semiconduttori e la Lavorazione delle Nuove Energie
Ottimizza la tua produzione di semiconduttori e nuove energie con cestelli portawafers personalizzati in PTFE. Progettati per una resistenza chimica estrema durante l'incisione e la pulizia RCA, questi portatori in fluoropolimero ad alta purezza garantiscono l'integrità del processo e una durata a lungo termine in ambienti industriali impegnativi.
Design di Porta Wafer in PTFE Personalizzata a Cestello a Fiore Resistente Chimico con Maniglia per la Pulizia dei Semiconduttori
Massimizza la resa dei semiconduttori con porta wafer in PTFE personalizzati e cestelli a fiore. Progettati per una resistenza superiore all'acido fluoridrico e ai reagenti aggressivi, questi sistemi di manipolazione ad alta purezza presentano maniglie ergonomiche e slot lavorati a CNC con precisione per una pulizia a umido sicura e priva di contaminazioni.
Personalizzato PTFE Teflon parti produttore PTFE pulizia Rack
Cestelli floreali in PTFE di elevata purezza per laboratori e semiconduttori. Resistenti agli agenti chimici, da -180°C a +250°C, dimensioni personalizzate disponibili. Contattate KINTEK oggi stesso!
Cestello per la pulizia di wafer semiconduttori in PTFE personalizzato, resistente alla corrosione, rack da laboratorio a basso fondo
Raggiungi una purezza superiore nella produzione di semiconduttori con i nostri cestelli per la pulizia in PTFE personalizzati. Progettati per un'estrema resistenza chimica e un basso interferenza di fondo, questi rack durevoli garantiscono un'elaborazione efficiente dei wafer, un drenaggio rapido e prestazioni affidabili in ambienti di laboratorio critici ad alta purezza.
Porta wafer personalizzato in PTFE resistente alla corrosione per lavorazione del polisilicio semiconduttore ad alta temperatura
Supporti per wafer in PTFE personalizzati di alta qualità progettati per ambienti chimici estremi e lavorazione semiconduttrice ad alta temperatura. Questi portelli resistenti alla corrosione garantiscono una manipolazione ad alta purezza, un funzionamento a basso attrito e un'eccezionale durata per i processi critici di produzione di polisilicio, fotovoltaico e elettronica avanzata.
Porta wafer circolare in PTFE da 6 pollici, cestello per pulizia semiconduttori resistente agli acidi e agli alcali, personalizzabile
Porta wafer in PTFE ad alta purezza da 6 pollici progettati per la lavorazione umida critica di semiconduttori. Progettati per un'estrema resistenza chimica e stabilità termica, questi cestelli a fioriera personalizzabili garantiscono una pulizia uniforme e la protezione dei substrati in ambienti di immersione acida e alcalina aggressivi durante tutta la produzione.
Supporto per Pulizia a Cestello Fiore PTFE Personalizzato, Resistente alla Corrosione, Porta-Wafer a Basso Fondo per la Ricerca sui Polimeri Avanzati
Scopri i nostri supporti per pulizia personalizzati a cestello fiore in PTFE ad alta purezza, progettati per un'estrema resistenza chimica e prestazioni a basso fondo nella ricerca sui materiali avanzati. Queste soluzioni fabbricate con precisione garantiscono un risciacquo efficiente e una lavorazione priva di contaminazioni per le esigenti applicazioni di laboratorio e industriali nei semiconduttori.
Cestello per la pulizia di wafer in PTFE da 4 pollici, rack per incisione, resistente ad acidi e alcali, portamaschere personalizzato
Cestelli per incisione in PTFE di precisione progettati per la pulizia di wafer semiconduttori e la lavorazione chimica. Questi rack per la pulizia resistenti agli acidi e ad alta purezza garantiscono zero contaminazione in ambienti di laboratorio impegnativi. Completamente personalizzabili per soddisfare specifiche dimensioni industriali di maschere e wafer per applicazioni avanzate di produzione e ricerca.
Personalizzato lavorato modellato PTFE Teflon parti produttore per laboratorio ITO FTO conduttivo vetro pulizia cesto fiore
Cestelli floreali in PTFE di elevata purezza per semiconduttori e laboratori. Resistenti agli agenti chimici, disponibili con design personalizzati. Ideali per wafer di silicio e substrati di vetro.
Cesto di pulizia in PTFE per semiconduttori - Portawafers da 12 pollici resistente agli acidi e agli alcali in fluoropolimero per incisione umida
Progettato per ambienti a alta purezza per semiconduttori, questo cesto di pulizia per wafer da 12 pollici in PTFE garantisce un'eccezionale resistenza chimica durante i processi critici di incisione umida e pulizia. Il design su misura offre un supporto affidabile per i wafer e una massima esposizione ai fluidi per la produzione di precisione.
Cesta per la pulizia di portapiastrine in PTFE personalizzata, resistente alla corrosione, senza lisciviazione, supporto per esperimenti con polimeri avanzati
Portapiastrine in PTFE personalizzati e cestelli per la pulizia ad alte prestazioni, progettati per la ricerca su semiconduttori e polimeri. Caratterizzati da eccezionale resistenza alla corrosione e proprietà a zero lisciviazione, queste soluzioni su misura garantiscono una lavorazione senza contaminazione in ambienti chimici impegnativi per applicazioni industriali e di laboratorio ad alta precisione.
Portapiastrine in silicio in PTFE per processi di incisione acida e pulizia 2 4 6 8 Pollici personalizzabile resistente alle alte temperature
Portapiastrine in silicio in PTFE ad alta purezza progettati per processi di incisione acida estrema e pulizia. Ottimizzati per piastrine da 2 a 8 pollici, questi robusti portapiastrine personalizzabili garantiscono una manipolazione senza contaminazioni e stabilità termica negli ambienti di produzione semiconduttrici più impegnativi per l'approvvigionamento B2B.