Prodotti Prodotti in PTFE (Teflon) PTFE (Teflon) da laboratorio Vassoio Portawafers Rotondo in PTFE e Vassoio di Reazione Isolante Resistente alla Corrosione per la Produzione di Semiconduttori ed Elettronica
Attiva/disattiva categorie
Vassoio Portawafers Rotondo in PTFE e Vassoio di Reazione Isolante Resistente alla Corrosione per la Produzione di Semiconduttori ed Elettronica

PTFE (Teflon) da laboratorio

Vassoio Portawafers Rotondo in PTFE e Vassoio di Reazione Isolante Resistente alla Corrosione per la Produzione di Semiconduttori ed Elettronica

Numero articolo : PL-CP169

Il prezzo varia in base a specifiche e personalizzazioni


Material Composition
PTFE / PFA Vergine ad Alta Purezza
Chemical Resistance
Universale (pH 0-14)
Fabrication Method
Lavorazione CNC Personalizzata Completa
ISO & CE icon

Spedizione:

Contattaci per ottenere i dettagli sulla spedizione. Buon divertimento Garanzia di spedizione puntuale.

Vedi Specifiche

Perché Scegliere Noi

Processo di ordinazione semplice, prodotti di qualità e supporto dedicato per il successo della tua azienda.

Processo Semplice Qualità Assicurata Supporto Dedicato

Panoramica del Prodotto

Product image 2

Product image 3

Questo sistema di portawafers rotondo ad alte prestazioni rappresenta l'apice della scienza dei materiali applicata ai settori dell'elettronica e dei semiconduttori. Ingegnerizzato con politetrafluoroetilene (PTFE) di grado premium, l'attrezzatura funge da critico manipolatore di substrati e recipiente di reazione per componenti elettronici sensibili. La sua proposta di valore principale risiede nella sua inerzia chimica assoluta e nelle sue eccezionali proprietà dielettriche, garantendo che delicati wafer di silicio, microchip e elementi di circuito ad alta frequenza rimangano non contaminati ed elettricamente isolati durante le fasi di lavorazione più rigorose. Utilizzando una base in fluoropolimero non reattivo, questa unità elimina il rischio di contaminazione da ioni metallici, un requisito fondamentale per gli ambienti di fabbricazione sub-micronici moderni.

I casi d'uso primari per questo sistema coprono l'intero ciclo di produzione di microelettronica, dalla incisione chimica umida (wet etching) e la pulizia ultrasonica al trasporto ad alta purezza e alla stadiatura di reazione specializzata. Le industrie target includono fonderie di semiconduttori, impianti di assemblaggio di circuiti stampati (PCB) e strutture di produzione di sensori avanzati. Che venga utilizzato come portawafers per la lavorazione automatizzata o come vassoio di reazione statico in ambienti di laboratorio, l'attrezzatura fornisce una superficie stabile e a basso attrito che protegge i fragili substrati dallo stress meccanico e dal degrado chimico. Il suo design è ottimizzato per le geometrie circolari tipiche della lavorazione dei wafer, garantendo un utilizzo efficiente dello spazio e un'esposizione uniforme ai fluidi di processo.

La fiducia nella affidabilità è insita nella stessa struttura molecolare del materiale utilizzato in questo sistema. Progettato per resistere alle condizioni industriali più esigenti, l'unità mantiene la sua integrità strutturale quando esposta ad acidi concentrati, solventi aggressivi e ambienti ad alta tensione. La robustezza della costruzione in fluoropolimero garantisce che l'attrezzatura non diventerà fragile, non si gonfierà o si degraderà nel corso di anni di servizio continuo. Per i team di approvvigionamento e i responsabili di impianto, questo si traduce in ridotti tempi di inattività, cicli di sostituzione meno frequenti e la certezza che le loro linee di produzione ad alto valore siano supportate da un portawafers che soddisfa i più rigorosi standard internazionali di purezza e prestazioni.

Caratteristiche Principali

  • Isolamento Dielettrico Superiore: L'attrezzatura presenta eccezionali proprietà isolanti elettriche con alta rigidità dielettrica e bassi fattori di dissipazione. Questo la rende la scelta ideale per applicazioni ad alta tensione e per il test di componenti elettronici sensibili dove prevenire la rottura dielettrica è fondamentale.
  • Resistenza Chimica Universale: Realizzato con fluoropolimeri ad alta purezza, questa unità è virtualmente immune agli attacchi di sostanze chimiche aggressive, incluso acido fluoridrico, acido solforico e forti solventi organici. Questo garantisce una durata a lungo termine in bagni di incisione e pulizia.
  • Stabilità Termica agli Estremi: Il sistema mantiene le sue proprietà meccaniche e la stabilità dimensionale attraverso un enorme intervallo di temperature. Rimane funzionale e non fragile in condizioni criogeniche e conserva la sua resistenza alle temperature elevate utilizzate nei processi di indurimento o asciugatura.
  • Energia Superficiale Ultra-Bassa: La natura antiaderente del materiale impedisce l'adesione di residui di processo e contaminanti. Questa caratteristica semplifica i protocolli di pulizia e garantisce che la contaminazione incrociata tra i lotti di produzione venga efficacemente eliminata.
  • Lavorazione di Precisione CNC: Ogni unità è prodotta utilizzando avanzate tecniche di fabbricazione a controllo numerico computerizzato (CNC). Questo permette tolleranze strette, geometrie complesse e fessure o tasche di dimensioni personalizzate adattate specificamente alle dimensioni dei wafer o chip dell'utente.
  • Compatibilità con Ambienti al Plasma: A differenza di molte plastiche standard, questo sistema dimostra una notevole stabilità quando esposto ad ambienti di lavorazione al plasma comuni nella produzione di semiconduttori, prevenendo il degassamento del materiale e la contaminazione del substrato.
  • Non Infiammabile e Autoestinguente: Le caratteristiche di sicurezza intrinseche del materiale forniscono un ulteriore livello di protezione nelle strutture elettroniche. Non supporta la combustione, riducendo significativamente i rischi di incendio associati al surriscaldamento dei componenti elettronici.
  • Flessibilità di Design Su Misura: Riconoscendo che ogni processo di microelettronica è unico, l'attrezzatura è completamente personalizzabile. Dallo spessore della base al diametro del portawafers e alla configurazione dei fori di drenaggio, ogni aspetto può essere adattato a requisiti di processo specifici.

Applicazioni

Applicazione Descrizione Vantaggio Chiave
Incisione Wafer Semiconduttori Trasporto di wafer di silicio attraverso bagni di acidi aggressivi per la definizione dei circuiti e la pulizia. La resistenza chimica assoluta previene il degrado del portawafers e la contaminazione.
Pulizia Componenti Elettronici Manipolazione di microchip e componenti SMD durante il lavaggio con solventi ad alta purezza o acqua deionizzata. La bassa energia superficiale garantisce un'asciugatura rapida e superfici prive di residui.
Test ad Alta Tensione Utilizzo come vassoio di reazione non conduttivo o base di supporto durante i test di stress elettrico. La superiore rigidità dielettrica previene gli archi elettrici e la rottura dielettrica.
Supporto Incisione al Plasma Supporto di substrati all'interno di camere a plasma di processi di incisione a secco o modifica superficiale. L'alta resistenza al plasma previene il degassamento e mantiene la purezza del processo.
Stadiatura Fotolitografia Tenuta di lastre sensibili e wafer durante le fasi di esposizione alla luce e sviluppo. La stabilità chimica garantisce che il portawafers non reagisca con le sostanze chimiche del fotoresist.
Produzione PCB Supporto di circuiti stampati ad alta frequenza durante i processi di placcatura chimica o laminazione. Le eccezionali proprietà isolanti mantengono l'integrità del segnale nei design ad alta frequenza.
Stoccaggio ad Alta Purezza Conservazione di materiali elettronici sensibili in ambiente camera bianca per prevenire la contaminazione ambientale. Il materiale non rilasciante garantisce zero trasferimento di ioni metallici o contaminanti organici.

Specifiche Tecniche

Come soluzione industriale su misura, la serie PL-CP169 è prodotta secondo le precise specifiche del cliente. La seguente tabella delinea le capacità tecniche e gli intervalli di personalizzazione disponibili per la linea di prodotti PL-CP169.

Metrica Dettaglio Specifica per PL-CP169 Stato Personalizzazione
Identificativo Modello PL-CP169 (Varianti Standard / Alta Purezza / Conduttive) Completamente Configurabile
Materiale Primario 100% Politetrafluoroetilene (PTFE) Vergine Opzionale PFA o PTFE Caricato
Geometria Configurazione Foglio o Vassoio Rotondo / Circolare Diametri Su Misura Disponibili
Intervallo Spessore Determinato dal carico applicativo e dai requisiti strutturali Lavorato Su Misura
Finitura Superficiale Superficie liscia lavorata CNC ad alta purezza Valori Ra specificati per ordine
Rigidità Dielettrica Eccellente (Proprietà intrinseca del materiale) Testata secondo requisiti kV specifici
Compatibilità Chimica Universale (pH 0-14) Resistente a tutti i reagenti standard
Intervallo Temperatura -200°C a +260°C Stabile su tutto l'intervallo operativo
Drenaggio / Flusso Aria Motivi forati personalizzati o design a fessure Ingegnerizzato in base ai dati CAD del cliente
Opzioni Riempitivi Nessuno (Puro) o Rame/Carbonio per conduttività termica/elettrica Specificato al momento dell'ordine
Grado Purezza Analisi delle tracce e grado semiconduttore Materiali vergini certificati

Perché Scegliere il Portawafers Rotondo in PTFE

  • Purezza dei Materiali Ineguagliata: Utilizziamo solo fluoropolimeri di grado premium e vergini, garantendo che ogni sistema che produciamo soddisfi i rigorosi requisiti di purezza dell'industria dei semiconduttori. Questa attenzione alla qualità dei materiali previene fallimenti catastrofici dei lotti causati da rilascio o degassamento.
  • Personalizzazione CNC End-to-End: Le nostre avanzate capacità di lavorazione significano che non vendiamo solo un prodotto; forniamo una soluzione su misura. Possiamo tradurre complessi disegni CAD in hardware preciso, garantendo che il portawafers si adatti perfettamente al tuo flusso di lavoro di automazione o laboratorio esistente.
  • Longevità Industriale Provata: In un'industria dove la precisione è misurata in nanometri, i nostri portawafers forniscono l'affidabilità strutturale e chimica necessaria per mantenere risultati costanti. Queste unità sono costruite per anni di uso industriale intenso, offrendo un ritorno sull'investimento superiore rispetto alle plastiche standard di base.
  • Profonda Competenza Tecnica: Il nostro focus è esclusivamente sui fluoropolimeri ad alte prestazioni. Questa specializzazione ci permette di fornire una guida esperta sulla selezione dei materiali, specialmente quando si affrontano requisiti complessi come riempitivi conduttivi per la protezione ESD o finiture ultra-liscie per sottili film delicati.
  • Assicurazione Qualità e Coerenza: Ogni unità subisce ispezioni rigorose per garantire accuratezza dimensionale e integrità dei materiali. Manteniamo un controllo stretto sul nostro processo di produzione per garantire che ogni spedizione soddisfi gli elevati standard previsti dalla catena di approvvigionamento elettronica globale.

Per discutere le tue dimensioni specifiche o ricevere un preventivo personalizzato per le tue esigenze di fabbricazione, contatta oggi il nostro team di vendite tecniche.

Fidato dai Leader del Settore

I Nostri Clienti Partner
Visualizza altre domande frequenti per questo prodotto

Scheda Tecnica del Prodotto

Vassoio Portawafers Rotondo in PTFE e Vassoio di Reazione Isolante Resistente alla Corrosione per la Produzione di Semiconduttori ed Elettronica

Catalogo delle Categorie

Ptfe (Teflon) Da Laboratorio


RICHIEDI UN PREVENTIVO

Il nostro team professionale ti risponderà entro un giorno lavorativo. Non esitare a contattarci!

Prodotti correlati

Vassoi in PTFE ad Alta Purezza Resistenti alla Corrosione per Laboratorio, Personalizzabili Quadrati e Rotondi in Fluoropolimero

Vassoi in PTFE ad Alta Purezza Resistenti alla Corrosione per Laboratorio, Personalizzabili Quadrati e Rotondi in Fluoropolimero

I vassoi premium in PTFE ad alta purezza offrono eccezionale resistenza chimica e bassa interferenza di fondo. Completamente personalizzabili in configurazioni quadrate o rotonde, questi resistenti vassoi garantiscono una manipolazione dei campioni senza contaminazione per applicazioni di laboratorio industriali, farmaceutiche e di analisi delle tracce più impegnative.

Vedi dettagli
Vaschette di reazione in PTFE resistenti alla corrosione e cassette Teflon personalizzate per la lavorazione dei semiconduttori e la gestione di prodotti chimici ad alta purezza

Vaschette di reazione in PTFE resistenti alla corrosione e cassette Teflon personalizzate per la lavorazione dei semiconduttori e la gestione di prodotti chimici ad alta purezza

Progettate per un'estrema resistenza chimica, queste vaschette di reazione in PTFE personalizzabili e cassette Teflon offrono una durata superiore per applicazioni nel settore dei semiconduttori e di laboratorio. Disponibili nei formati quadrati da 8 pollici e 12 pollici con personalizzazione CNC completa per soddisfare requisiti industriali precisi. Contattaci oggi.

Vedi dettagli
Porta wafer personalizzato in PTFE resistente alla corrosione per lavorazione del polisilicio semiconduttore ad alta temperatura

Porta wafer personalizzato in PTFE resistente alla corrosione per lavorazione del polisilicio semiconduttore ad alta temperatura

Supporti per wafer in PTFE personalizzati di alta qualità progettati per ambienti chimici estremi e lavorazione semiconduttrice ad alta temperatura. Questi portelli resistenti alla corrosione garantiscono una manipolazione ad alta purezza, un funzionamento a basso attrito e un'eccezionale durata per i processi critici di produzione di polisilicio, fotovoltaico e elettronica avanzata.

Vedi dettagli
Cestello per la pulizia di wafer semiconduttori in PTFE personalizzato, resistente alla corrosione, rack da laboratorio a basso fondo

Cestello per la pulizia di wafer semiconduttori in PTFE personalizzato, resistente alla corrosione, rack da laboratorio a basso fondo

Raggiungi una purezza superiore nella produzione di semiconduttori con i nostri cestelli per la pulizia in PTFE personalizzati. Progettati per un'estrema resistenza chimica e un basso interferenza di fondo, questi rack durevoli garantiscono un'elaborazione efficiente dei wafer, un drenaggio rapido e prestazioni affidabili in ambienti di laboratorio critici ad alta purezza.

Vedi dettagli
Cesta per la pulizia di portapiastrine in PTFE personalizzata, resistente alla corrosione, senza lisciviazione, supporto per esperimenti con polimeri avanzati

Cesta per la pulizia di portapiastrine in PTFE personalizzata, resistente alla corrosione, senza lisciviazione, supporto per esperimenti con polimeri avanzati

Portapiastrine in PTFE personalizzati e cestelli per la pulizia ad alte prestazioni, progettati per la ricerca su semiconduttori e polimeri. Caratterizzati da eccezionale resistenza alla corrosione e proprietà a zero lisciviazione, queste soluzioni su misura garantiscono una lavorazione senza contaminazione in ambienti chimici impegnativi per applicazioni industriali e di laboratorio ad alta precisione.

Vedi dettagli
Porta wafer in PTFE ad alta purezza, cestello a fiore per la lavorazione del silicio resistente alla corrosione, materiale da laboratorio su misura

Porta wafer in PTFE ad alta purezza, cestello a fiore per la lavorazione del silicio resistente alla corrosione, materiale da laboratorio su misura

Ottimizza la pulizia dei semiconduttori con i nostri porta wafer in PTFE ad alta purezza: caratterizzati da estrema resistenza chimica e dimensioni completamente personalizzabili, sono ideali per i flussi di lavorazione di precisione del silicio, incluse le procedure di pulizia RCA e attacco piranha nei moderni ambienti di camera bianca avanzata.

Vedi dettagli
Cestello quadrato in PTFE per pulizia wafer Portapannelli in fluoropolimero per incisione semiconduttori Portapiastrelle di silicio personalizzato

Cestello quadrato in PTFE per pulizia wafer Portapannelli in fluoropolimero per incisione semiconduttori Portapiastrelle di silicio personalizzato

Ottimizza i processi di banco umido per semiconduttori con i nostri cestelli quadrati personalizzati in PTFE per la pulizia dei wafer. Progettati per un'estrema resistenza chimica e una manipolazione ad alta purezza, questi portapezzi in fluoropolimero offrono durabilità e precisione superiori per le operazioni critiche di incisione e pulizia dei wafer di silicio.

Vedi dettagli
Cella di Reazione Elettroforetica Isolante Personalizzata in PTFE Resistente alla Corrosione, con Setto e Valvole per Analisi di Traccia a Basso Fondo

Cella di Reazione Elettroforetica Isolante Personalizzata in PTFE Resistente alla Corrosione, con Setto e Valvole per Analisi di Traccia a Basso Fondo

Ottimizza le analisi di traccia con le nostre celle di reazione personalizzate in PTFE resistenti alla corrosione. Con design elettroforetici isolanti dotati di setti e valvole integrate, questi sistemi ad alta purezza garantiscono un basso fondo e zero precipitazioni metalliche per le impegnative applicazioni di ricerca chimica e di laboratorio industriale odierne.

Vedi dettagli
Portatore Cestello di Pulizia Laboratorio PTFE Personalizzato Resistenza Acidi e Basi Alta Purezza Supporto Wafer Basso Sfondo Contaminazione Zero Rack per Bagno Chimico

Portatore Cestello di Pulizia Laboratorio PTFE Personalizzato Resistenza Acidi e Basi Alta Purezza Supporto Wafer Basso Sfondo Contaminazione Zero Rack per Bagno Chimico

Scopri i portatori di cestelli di pulizia in PTFE personalizzati ad alta purezza progettati per la semiconduttrice e l'analisi delle tracce. Questi rack resistenti agli acidi garantiscono zero rilascio e livelli di fondo ultra-bassi, fornendo prestazioni affidabili negli ambienti chimici più esigenti per i processi di pulizia di laboratorio di precisione.

Vedi dettagli
Porta Wafer Circolare in PTFE da 6 Pollici Resistente ad Acidi e Alcalini Cestello per Pulizia Semiconduttori Personalizzabile

Porta Wafer Circolare in PTFE da 6 Pollici Resistente ad Acidi e Alcalini Cestello per Pulizia Semiconduttori Personalizzabile

Porta wafer circolari in PTFE da 6 pollici ad alta purezza progettati per la pulizia dei semiconduttori. Eccellente resistenza agli acidi e agli alcali per l'incisione piranha e HF. Cestelli lavorati con precisione, completamente personalizzabili, per garantire una manipolazione sicura dei substrati durante processi chimici a umido impegnativi, bagni a immersione e risciacqui ultrasonici.

Vedi dettagli
Vassoi quadrati in PTFE personalizzati per uso industriale e di laboratorio

Vassoi quadrati in PTFE personalizzati per uso industriale e di laboratorio

Vaschette quadrate in PTFE di qualità superiore per laboratori e industria. Vaschette in PTFE ad alta purezza, antiaderenti e resistenti agli agenti chimici per semiconduttori e uso medico. Sono disponibili formati personalizzati.

Vedi dettagli
Cestello per pulizia wafer in PTFE ad alta purezza - Supporto per wafer di silicio resistente agli acidi - Supporto per incisione in fluoropolimero

Cestello per pulizia wafer in PTFE ad alta purezza - Supporto per wafer di silicio resistente agli acidi - Supporto per incisione in fluoropolimero

Garantisci una lavorazione dei semiconduttori priva di contaminazioni con i nostri cestelli per pulizia wafer in PTFE ad alta purezza. Progettati per processi di incisione e pulizia aggressivi, questi supporti personalizzabili offrono eccezionale resistenza chimica e stabilità termica per la movimentazione di wafer di silicio durante i processi critici di produzione con prodotti chimici umidi.

Vedi dettagli
Porta Wafer in PTFE per Semiconduttori 8 Pollici Resistente alla Pulizia a Umido e All'Incisione con HF

Porta Wafer in PTFE per Semiconduttori 8 Pollici Resistente alla Pulizia a Umido e All'Incisione con HF

Ottimizza la lavorazione dei semiconduttori con questo porta wafer premium in PTFE da 8 pollici, progettato per applicazioni di pulizia ad alta purezza a umido e incisione con HF. Le nostre cassette in fluoropolimero di grado industriale garantiscono la massima resistenza chimica, una durata superiore e una manipolazione precisa per ambienti di produzione in sala pulita sensibili.

Vedi dettagli
Pannello Termoisolante in PTFE Resistente ad Alte Temperature Supporto in Fluoropolimero Senza Metalli Resistente alla Corrosione per Laboratori Ultra Puliti

Pannello Termoisolante in PTFE Resistente ad Alte Temperature Supporto in Fluoropolimero Senza Metalli Resistente alla Corrosione per Laboratori Ultra Puliti

Pannelli termoisolanti in PTFE personalizzati e supporti senza metalli progettati per ambienti di laboratorio ultra puliti. Queste soluzioni in fluoropolimero ad alta purezza offrono un'eccezionale resistenza alla corrosione e stabilità termica per processi impegnativi di analisi delle tracce e produzione di semiconduttori.

Vedi dettagli
Porta wafer circolare in PTFE da 6 pollici, cestello per pulizia semiconduttori resistente agli acidi e agli alcali, personalizzabile

Porta wafer circolare in PTFE da 6 pollici, cestello per pulizia semiconduttori resistente agli acidi e agli alcali, personalizzabile

Porta wafer in PTFE ad alta purezza da 6 pollici progettati per la lavorazione umida critica di semiconduttori. Progettati per un'estrema resistenza chimica e stabilità termica, questi cestelli a fioriera personalizzabili garantiscono una pulizia uniforme e la protezione dei substrati in ambienti di immersione acida e alcalina aggressivi durante tutta la produzione.

Vedi dettagli
Design di Porta Wafer in PTFE Personalizzata a Cestello a Fiore Resistente Chimico con Maniglia per la Pulizia dei Semiconduttori

Design di Porta Wafer in PTFE Personalizzata a Cestello a Fiore Resistente Chimico con Maniglia per la Pulizia dei Semiconduttori

Massimizza la resa dei semiconduttori con porta wafer in PTFE personalizzati e cestelli a fiore. Progettati per una resistenza superiore all'acido fluoridrico e ai reagenti aggressivi, questi sistemi di manipolazione ad alta purezza presentano maniglie ergonomiche e slot lavorati a CNC con precisione per una pulizia a umido sicura e priva di contaminazioni.

Vedi dettagli
Portapiastrine in silicio in PTFE per processi di incisione acida e pulizia 2 4 6 8 Pollici personalizzabile resistente alle alte temperature

Portapiastrine in silicio in PTFE per processi di incisione acida e pulizia 2 4 6 8 Pollici personalizzabile resistente alle alte temperature

Portapiastrine in silicio in PTFE ad alta purezza progettati per processi di incisione acida estrema e pulizia. Ottimizzati per piastrine da 2 a 8 pollici, questi robusti portapiastrine personalizzabili garantiscono una manipolazione senza contaminazioni e stabilità termica negli ambienti di produzione semiconduttrici più impegnativi per l'approvvigionamento B2B.

Vedi dettagli
Porta wafer da 6 pollici in PTFE per pulizia a umido, resistente ad acidi e alcali per incisione, vettore wafer in fluoropolimero

Porta wafer da 6 pollici in PTFE per pulizia a umido, resistente ad acidi e alcali per incisione, vettore wafer in fluoropolimero

Porta wafer da pulizia ad alta purezza da 6 pollici in PTFE, progettati per processi di incisione a umido aggressivi. Questi vettori in fluoropolimero resistenti agli acidi offrono eccezionale stabilità chimica e contaminazione ultra-bassa per la produzione di semiconduttori e applicazioni di analisi di tracce di laboratorio impegnative e lavorazioni chimiche.

Vedi dettagli
Cesto di pulizia in PTFE per semiconduttori - Portawafers da 12 pollici resistente agli acidi e agli alcali in fluoropolimero per incisione umida

Cesto di pulizia in PTFE per semiconduttori - Portawafers da 12 pollici resistente agli acidi e agli alcali in fluoropolimero per incisione umida

Progettato per ambienti a alta purezza per semiconduttori, questo cesto di pulizia per wafer da 12 pollici in PTFE garantisce un'eccezionale resistenza chimica durante i processi critici di incisione umida e pulizia. Il design su misura offre un supporto affidabile per i wafer e una massima esposizione ai fluidi per la produzione di precisione.

Vedi dettagli
Apparecchiatura di reazione multistrato in PTFE personalizzata, sistema a setaccio modulare filettato resistente alla corrosione e alle alte temperature

Apparecchiatura di reazione multistrato in PTFE personalizzata, sistema a setaccio modulare filettato resistente alla corrosione e alle alte temperature

Migliorate i processi chimici con questa apparecchiatura di reazione multistrato in PTFE personalizzata, dotata di connessioni filettate resistenti alla corrosione e piastre filtranti integrate. Progettata per la stabilità alle alte temperature e la filtrazione di precisione in ambienti di laboratorio esigenti, dalla ricerca farmaceutica e dei semiconduttori alle applicazioni industriali avanzate.

Vedi dettagli