PTFE (Teflon) da laboratorio
Vasca rettangolare da laboratorio in PFA ad alta purezza per pulizia acida, resistente alla corrosione per lavaggio di wafer di silicio
Numero articolo : PL-CP47
Il prezzo varia in base a specifiche e personalizzazioni
- Intervallo di temperatura di funzionamento
- -200°C a +260°C
- Purezza del materiale
- PFA vergine a purezza ultraelevata
- Resistenza chimica
- Universale (Acidi, basi e solventi)
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Panoramica del prodotto
Questa vasca da laboratorio rettangolare in PFA ad alta purezza rappresenta il vertice della tecnologia di contenimento chimico e preparazione dei campioni. Progettata specificamente per ambienti in cui la contaminazione non è un'opzione, questa unità fornisce un recipiente ultra-pulito e chimicamente inerte per i protocolli più esigenti di digestione acida, lisciviazione e pulizia. La sua principale proposta di valore risiede nella purezza assoluta del materiale perfluoroalchil alcano (PFA), che garantisce che nessun metallo traccia o contaminante organico passi nella soluzione di processo, anche sotto stress termico estremo.
Progettata per le industrie dei semiconduttori, fotovoltaiche e della chimica analitica, l'apparecchiatura eccelle nella pulizia dei wafer di silicio, nell'incisione di substrati di vetro e nella preparazione di reagenti ad alta purezza. Che venga utilizzata in una camera bianca Classe 100 o in un laboratorio industriale ad alto throughput, questo sistema fornisce l'affidabilità richiesta per risultati ripetibili in ICP-MS (Spettrometria di massa a plasma accoppiato induttivamente) e altre tecniche di analisi di elementi in traccia. La sua robusta costruzione permette un'esposizione prolungata ad acido fluoridrico, nitrico e cloridrico concentrati senza deterioramento.
Gli team di approvvigionamento industriale possono fare affidamento su questa unità per la sua eccezionale longevità e integrità strutturale. A differenza delle alternative tradizionali in quarzo o polimeri di bassa qualità, questo sistema resiste agli shock termici e agli impatti meccanici, riducendo significativamente il costo totale di proprietà attraverso una vita di servicio estesa. Il processo di produzione garantisce superfici lisce e non porose che prevengono l'adesione dei soluti, facilitando una pulizia rapida e la prevenzione della contaminazione incrociata in strutture a più utenti.
Caratteristiche principali
- Superiore inerzia chimica: L'apparecchiatura è realizzata in resina PFA premium, fornendo una resistenza universale a praticamente tutti i prodotti chimici, incluso acido solforico bollente, acqua regia e solventi organici.
- Purezza di grado ultra-traccia: Con i più bassi estrattibili di ioni metallici di qualsiasi fluoropolimero, questo sistema è lo standard di riferimento per l'analisi di metalli in traccia e la manipolazione di prodotti chimici ultra-puri.
- Intervallo di funzionamento termico estremo: L'unità mantiene stabilità meccanica e resistenza chimica attraverso un ampio spettro di temperature, dagli ambienti criogenici a -200°C ai processi ad alta temperatura a +260°C.
- Proprietà di superficie non bagnante: La bassa energia superficiale naturale del materiale impedisce alle gocce di liquido di aderire alle pareti, garantendo il massimo recupero del campione e procedure di decontaminazione semplificate.
- Pareti ad alta trasparenza: La natura semitrasparente del fluoropolimero permette ai tecnici di laboratorio di monitorare i livelli dei fluidi e il progresso della reazione senza aprire il recipiente o rischiare l'esposizione.
- Fabbricazione CNC senza saldature: Utilizzando tecniche di lavorazione avanzate, la vasca presenta geometrie precise e punti strutturali rinforzati, garantendo un funzionamento senza perdite in ambienti industriali ad alto rischio.
- Resistenza ai raggi UV e all'ossidazione: Il materiale è intrinsecamente stabile contro le radiazioni ultraviolette e lo stress ossidativo, prevenendo l'indurimento o l'ingiallimento comuni in polimeri di qualità inferiore.
- Capacità vuoto e pressione: Lo spessore robusto delle pareti è progettato per resistere alle differenze di pressione standard di laboratorio, rendendolo adatto per applicazioni specializzate di degasificazione sotto vuoto o lisciviazione in pressione.
Applicazioni
| Applicazione | Descrizione | Vantaggio chiave |
|---|---|---|
| Pulizia di wafer di silicio | Immersione di wafer di semiconduttori in miscele HF/HNO3 per la rimozione degli ossidi. | Previene la contaminazione metallica del reticolo di silicio. |
| Lisciviazione di elementi in traccia | Immersione di campioni geologici o ambientali in acidi minerali caldi. | Garantisce il rumore di fondo più basso possibile per ICP-MS. |
| Sterilizzazione farmaceutica | Manipolazione di agenti di sterilizzazione aggressivi e API ad alta purezza. | Conforme a rigorosi standard di biocompatibilità e purezza. |
| Ricerca sui materiali per batterie | Stoccaggio e miscelazione di componenti di elettrolita corrosivi per la ricerca sulle batterie al litio. | Resiste all'attacco chimico da sali fluorurati e solventi. |
| Decontaminazione della vetreria | Immersione profonda della vetreria da laboratorio in bagni acidi per rimuovere residui persistenti. | Fornisce un'alternativa sicura e durevole ai pericolosi bagni acidi in vetro. |
| Raffinazione di metalli preziosi | Contenimento di acqua regia durante la dissoluzione e purificazione di oro o platino. | Elimina il rischio di guasto del recipiente durante le reazioni esotermiche. |
| Incisione di celle fotovoltaiche | Elaborazione in lotti di substrati di celle solari in soluzioni di incisione testurizzate. | Mantiene una chimica del bagno costante per migliaia di cicli. |
Specifiche tecniche
| Attributo | Dettagli specifiche (Modello PL-CP47) |
|---|---|
| Numero di modello | PL-CP47 |
| Composizione del materiale | 100% Perfluoroalchil alcano (PFA) ad alta purezza |
| Dimensioni interne | 400mm (Lunghezza) x 300mm (Larghezza) x 120mm (Profondità) |
| Spessore parete | Costruzione robusta (Personalizzabile su richiesta) |
| Resistenza termica | -200°C a +260°C (-328°F a +500°F) |
| Punto di fusione | Circa 305°C |
| Compatibilità chimica | Universale (Eccetto metalli alcalini fusi e gas fluoro) |
| Finitura superficiale | Finitura lucida, a bassa porosità, lavorata |
| Opzioni di personalizzazione | Disponibili (Dimensioni, portali di scarico, maniglie e coperchi) |
| Processo di produzione | Fabbricazione CNC personalizzata / Lavorazione di precisione |
| Tipo di prodotto | Prodotto personalizzato / Fabbricazione su misura |
Perché sceglierci
- Integrità dei materiali impareggiabile: Utilizziamo solo il grado più alto di PFA, garantendo che le nostre vasche soddisfino gli rigorosi standard delle industrie dei semiconduttori e analitiche dove la purezza a parti per trilione è un requisito.
- Ingegneria di precisione: A differenza delle vasche stampate con stress interni intrinseci, le nostre unità fabbricate CNC offrono una superiore stabilità dimensionale e sono su misura per soddisfare le tolleranze esatte richieste dai sistemi automatizzati di manipolazione dei wafer.
- Durata estrema: La robustezza termica e chimica della nostra costruzione in fluoropolimero garantisce che questo investimento supererà di un margine significativo i recipienti in quarzo, PTFE o polipropilene in ambienti difficili.
- Piena capacità di personalizzazione: Ci specializziamo in soluzioni non standard. Che richiediate dimensioni specifiche, valvole di scarico integrate o supporti di montaggio personalizzati, il nostro team di ingegneria può fornire una soluzione su misura.
- Design specifico per l'applicazione: Il nostro team comprende le sfumature della lavorazione chimica, permettendoci di fornire indicazioni sulla selezione dei materiali e sulle caratteristiche di design che ottimizzano il flusso di lavoro e la sicurezza del vostro laboratorio.
Per richieste di approvvigionamento o per richiedere un preventivo per un sistema di pulizia in PFA di dimensioni personalizzate adatto ai vostri requisiti di processo specifici, vi preghiamo di contattare oggi il nostro reparto vendite tecnico.
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