PTFE (Teflon) da laboratorio
Vasca rettangolare da laboratorio in PFA ad alta purezza, bagno di lavaggio acido resistente alla corrosione per la lavorazione di wafer di silicio e l'analisi di tracce
Numero articolo : PL-CP198
Il prezzo varia in base a specifiche e personalizzazioni
- Materiale
- PFA vergine ad alta purezza
- Intervallo di temperatura di esercizio
- -200°C a +260°C
- Dimensioni interne
- 400 x 300 x 120 mm (Personalizzabile)
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Panoramica del prodotto



Questa vasca rettangolare da laboratorio in PFA ad alta purezza rappresenta l'apice dell'ingegneria dei fluoropolimeri, progettata specificamente per ambienti in cui l'inerzia chimica e il controllo della contaminazione sono imprescindibili. Realizzata in perfluoroalcossi alcane di prima qualità, l'apparecchiatura offre una soluzione intransigente per lo stoccaggio, l'immersione e la pulizia di componenti sensibili nelle analisi ultra-trace e nella fabbricazione di semiconduttori. La sua costruzione robusta garantisce che anche se esposta agli acidi minerali e ai solventi organici più aggressivi, il recipiente mantenga la sua integrità strutturale e la purezza del materiale, prevenendo qualsiasi lisciviazione di ioni metallici o contaminanti organici nel mezzo di processo.
Utilizzata principalmente nei settori dei semiconduttori, fotovoltaico e farmaceutico, questa unità eccelle nella pulizia di wafer di silicio, nell'incisione acida e nella preparazione di campioni per analisi ICP-MS e ICP-OES. Le sue dimensioni sono ottimizzate per ospitare portawafers standard e scaffali da laboratorio, mentre la traslucenza intrinseca del materiale permette di monitorare facilmente il livello del fluido e l'avanzamento della pulizia. Sia che sia integrata in un banco umido automatizzato o utilizzato come stazione di immersione standalone, il sistema garantisce la coerenza e l'affidabilità necessarie per processi industriali ad alto rischio e ricerche scientifiche avanzate.
In condizioni di laboratorio impegnative, l'unità offre una sicurezza senza precedenti. A differenza della plastica standard o dei fluoropolimeri di grado inferiore, questa vasca ad alte prestazioni è costruita per resistere a cicli termici estremi e all'esposizione prolungata ad acido fluoridrico, nitrico e solforico concentrati. L'impegno per l'eccellenza ingegneristica si riflette in ogni raggio e finitura superficiale, garantendo che l'apparecchiatura rimanga un asset affidabile nel tuo flusso di lavoro privo di contaminazioni per anni. La sua durata si traduce in costi di sostituzione inferiori e maggiore sicurezza operativa, rendendola la scelta preferita dai team di approvvigionamento focalizzati sul valore a lungo termine e sulle prestazioni tecniche.
Caratteristiche chiave
- Inerzia chimica superiore: L'apparecchiatura è fabbricata in PFA vergine al 100%, offrendo una resistenza quasi universale ai prodotti chimici corrosivi, inclusi acidi forti, basi e agenti ossidanti, garantendo l'assenza di degrado del materiale durante i processi di immersione a lungo termine.
- Lisciviazione di metalli in tracce ultra-bassa: Progettata per le applicazioni analitiche più sensibili, l'unità minimizza il rischio di contaminazione del campione, rendendola ideale per la rilevazione di elementi in tracce dove è richiesta precisione in parti per trilione (ppt).
- Stabilità termica eccezionale: Questo sistema mantiene resistenza meccanica e chimica in un ampio intervallo di temperature, da livelli criogenici fino a 260°C (500°F), consentendo la lisciviazione con acido caldo e cicli di pulizia ad alta temperatura.
- Proprietà superficiali antiaderenti: La bassa energia superficiale del fluoropolimero previene l'adesione di residui, biofilm e depositi cristallini, facilitando una pulizia rapida e garantendo l'assenza di contaminazione incrociata tra lotti.
- Progetto ingegneristico senza giunture: Utilizzando tecniche di produzione avanzate, l'unità presenta una geometria interna liscia che elimina le zone morte e le fessure dove possono accumularsi contaminanti, favorendo una dinamica dei fluidi superiore.
- Traslucenza ad alta purezza: La trasparenza naturale del materiale permette agli operatori di ispezionare visivamente il contenuto e monitorare le reazioni di processo senza aprire il recipiente, mantenendo l'integrità dell'ambiente interno.
- Integrità strutturale robusta: Progettata con uno spessore delle pareti rinforzato, l'apparecchiatura resiste alla deformazione sotto carichi di fluido pesanti e alte temperature, fornendo una piattaforma stabile e sicura per le operazioni di pulizia industriale.
- Configurazioni personalizzabili: Oltre alle dimensioni standard, l'unità può essere adattata con porte, coperchi, valvole di drenaggio o partizioni interne specifiche tramite lavorazione CNC di precisione per soddisfare requisiti di processo unici.
- Resistenza ai raggi UV e all'ossidazione: La catena completamente fluorurata garantisce che l'apparecchiatura non si degradi se esposta alla luce ultravioletta o all'ozono, rendendola adatta per processi di ossidazione avanzati e ambienti di camera bianca.
- Fabbricazione di precisione: Ogni unità viene sottoposta a controlli di qualità rigorosi per garantire accuratezza dimensionale e levigatura superficiale, rispettando le tolleranze strette richieste per l'integrazione in apparecchiature avanzate di lavorazione a umido per semiconduttori.
Applicazioni
| Applicazione | Descrizione | Vantaggio chiave |
|---|---|---|
| Pulizia di wafer per semiconduttori | Immersione e incisione di wafer di silicio in soluzioni RCA o Piranha per rimuovere impurità organiche e metalliche. | Previene la contaminazione da ioni metallici nei nodi sub-micrometrici. |
| Preparazione campioni ICP-MS | Pre-pulizia e lisciviazione di recipienti di digestione e strumenti da laboratorio in acido nitrico ad alta purezza. | Garantisce il fondo più basso possibile per l'analisi di tracce. |
| Incisione di celle fotovoltaiche | Incisione di texture su superfici di silicio solare utilizzando bagni chimici aggressivi per migliorare l'assorbimento della luce. | Elevata durata contro le chimiche aggressive per la texturizzazione e il calore. |
| Lavaggio di API farmaceutiche | Pulizia di componenti in acciaio inox o parti in vetro specializzate in solventi ad alta purezza per prevenire la contaminazione incrociata. | Materiale conforme FDA con zero lisciviazione di additivi. |
| Ricerca sulle batterie | Gestione di elettroliti reattivi e sottoprodotti di acido fluoridrico durante i test su batterie agli ioni di litio. | Resistenza a lungo termine ai prodotti di degradazione degli elettroliti. |
| Stoccaggio di isotopi nucleari | Contenimento e trasporto sicuro di isotopi radioattivi in mezzi acidi durante la produzione di radiofarmaci. | Contenimento affidabile e facilità di decontaminazione. |
| R&S nella microelettronica | Sviluppo di nuovi processi di deposizione e incisione che richiedono compatibilità chimica per piccoli lotti. | Flessibilità per dimensioni personalizzate e fissaggi interni. |
| Analisi ambientali | Stoccaggio e immersione di campioni ambientali di grande volume in bagni acidi per la rilevazione di metalli pesanti. | Elevato rapporto volume/superficie con minima interazione con le pareti. |
Specifiche tecniche
| Parametro | Specifiche per PL-CP198 |
|---|---|
| Identificatore modello | PL-CP198 |
| Composizione materiale | PFA (Perfluoroalcossi) ad alta purezza vergine al 100% |
| Dimensioni esterne | 400mm (L) x 300mm (P) x 120mm (A) |
| Spessore pareti | Progettato su misura per la stabilità strutturale in base all'applicazione |
| Intervallo di temperatura | -200°C a +260°C (-328°F a +500°F) |
| Resistenza chimica | Eccellente (inclusi HF, HNO3, HCl, H2SO4 e solventi organici) |
| Finitura superficiale | Pareti interne lisce di alta precisione; disponibile Ra < 0,5μm |
| Contenuto di metalli in tracce | Tipicamente < 1 ppb per i metalli critici (verificato tramite test per lotto) |
| Opzioni di personalizzazione | Dimensioni, design del coperchio e porte di drenaggio completamente personalizzabili |
| Metodo di fabbricazione | Lavorazione CNC di precisione o stampaggio (in base al volume e ai requisiti) |
| Configurazione coperchio | Disponibile a cielo aperto o con coperchi piatti/incassati in PFA corrispondenti |
Perché scegliere questo prodotto
- Qualità del materiale senza pari: Utilizziamo solo PFA di prima qualità, garantendo che ogni unità offra il massimo livello di resistenza chimica e il fondo di metalli in tracce più basso disponibile nel settore.
- Ingegneria di precisione: Le nostre capacità di fabbricazione CNC end-to-end ci permettono di produrre geometrie complesse e dimensioni personalizzate con tolleranze rigorose, garantendo che l'apparecchiatura si adatti perfettamente al tuo flusso di lavoro esistente.
- Affidabilità industriale comprovata: Progettato per la longevità, questo sistema supera le prestazioni delle plastiche da laboratorio tradizionali, offrendo un costo totale di proprietà significativamente inferiore grazie alla minor frequenza di sostituzione e alla minimizzazione dei tempi di inattività del processo.
- Personalizzazione completa: Sappiamo che una taglia non va bene per tutti. Dai sistemi di drenaggio specializzati agli elementi riscaldanti integrati, possiamo adattare i nostri progetti per risolvere le tue sfide tecniche specifiche.
- Focus assoluto sui fluoropolimeri: Con un focus esclusivo su materiali ad alte prestazioni come PTFE e PFA, portiamo esperienza specializzata in ogni progetto, garantendo che le tue forniture di laboratorio rispettino i più alti standard di purezza e prestazioni.
Per una consulenza tecnica o per richiedere un preventivo per un bagno di pulizia in PFA di dimensioni personalizzate adatto al tuo processo specifico, contatta oggi il nostro team di ingegneri.
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Scheda Tecnica del Prodotto
Vasca rettangolare da laboratorio in PFA ad alta purezza, bagno di lavaggio acido resistente alla corrosione per la lavorazione di wafer di silicio e l'analisi di tracce
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